ForgetMeNot: Understanding and Modeling the Impact of Forever Chemicals Toward Sustainable Large-Scale Computing
Rohan Basu Roy, Raghavendra Kanakagiri, Yankai Jiang, Devesh Tiwari
氟化化合物,通常被称为永远的化学物质,在半导体制造的各个步骤中至关重要,如光刻,蚀刻,室清洁等。 永远的化学排放可以表现出比二氧化碳大数千倍的全球变暖潜力,并在大气中持续数千年。 尽管受到严重影响,但计算机系统中的大多数可持续性工作都集中在碳排放上。 我们通过引入ForgetMeNot来解决这一差距,ForgetMeNot是一种建模工具,通过集成制造设施特定的实践和硬件规范来量化氟化化合物排放,并使用制造设施的实际排放数据验证其准确性。 我们展示了ForgetMeNot如何使制造设施能够优化减排的设计和材料使用决策,并为研究人员提供校准硬件设计排放估算的方法。 当ForgetMeNot用于分析制造CPU,DRAM和存储的排放时,它说明了硬件一代,光刻技术和容量如何影响氟化化合物排放。 最后,我们演示了数据中心运营商如何在平衡性能需求的同时组装低排放服务器。 通过将氟化排放纳入制造决策,ForgetMeNot为构建更可持续的系统铺平了道路。
Fluorinated compounds, often referred to as forever chemicals, are critical in various steps of semiconductor fabrication like lithography, etching, chamber cleaning, and others. Forever chemical emissions can exhibit global warming potentials thousands of times greater than carbon dioxide and persist in the atmosphere for millennia. Despite their severe impact, most sustainability works in computer systems have focused on carbon emissions alone. We address this gap by introducing ForgetMeNot, a...